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日本tekhne露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用
測量氣體中的水蒸氣露點(diǎn)溫度的儀器叫做露點(diǎn)儀。
露點(diǎn)儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同, 可以分為多種類型。這里只介紹熱電制冷自動(dòng)檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用。
露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)是在凈化間內(nèi)進(jìn)行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度 (RH) 這一項(xiàng), 一年內(nèi)控制點(diǎn)的范圍從35%到65%, 精度2% (70℃以下) 濕度超標(biāo)會影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計(jì)劃的完成。
在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)區(qū), 濕度不穩(wěn)定, 會出現(xiàn)很多問題。典型的問題是烘干期延長, 整個(gè)處理過程變得難以控制。當(dāng)相對濕度高于35%時(shí), 元件易被腐蝕。此外, 將顯影液噴在芯片表面時(shí), 顯影液迅速揮發(fā), 使芯片表面溫度下降, 致使水汽凝結(jié)在芯片表面。凝結(jié)水不但會影響顯影特性, 還會吸收到半導(dǎo)體內(nèi), 這將導(dǎo)致膨化及其它質(zhì)量缺陷, 還必須增加一些不必要的工藝控制。
凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調(diào)節(jié)空氣, 另一種是除濕劑。采用第一種方法時(shí), 將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點(diǎn)以下。除去析出的冷凝水, 將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后, 重新送回凈化間。標(biāo)準(zhǔn)冷凍機(jī)可保證露點(diǎn)達(dá)到+4℃;采用第二種方法時(shí), 氣流通過吸濕劑, 吸濕劑直接吸收氣流中的水分, 然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點(diǎn)低于-18℃。另外, 半導(dǎo)體芯片需在化學(xué)氣相沉積外延反應(yīng)爐中加工, 將一層穩(wěn)定的單晶硅膜沉積在芯片上。在加工過程中反應(yīng)爐中的水氣和氧氣會污染沉積膜而降低產(chǎn)量。
反應(yīng)爐工作氣壓范圍從高真空度到大氣壓, 可在約344kPa壓力下預(yù)凈化處理。該工藝所需的氣體包括:胂化氫、磷化氫、氫、氮和氬等。膜沉積工藝質(zhì)量取決于對氣體混合及質(zhì)量流量的控制。產(chǎn)量取決于濕度的控制精度。也就是說, 濕度及氧的測量, 對設(shè)計(jì)嚴(yán)格的氣體混合規(guī)范十分重要, 整個(gè)工藝過程離不開熱電制冷自動(dòng)檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀的監(jiān)測。
日本tekhne達(dá)到國內(nèi)高質(zhì)量和低價(jià)格的新世界標(biāo)準(zhǔn)露點(diǎn)儀TK-100
特征
主要用途
高品質(zhì)家用露點(diǎn)儀
過去40年來，Techne Measurement Co.，Ltd.一直在使用以露點(diǎn)計(jì)為中心的濕度管理和測量設(shè)備。電容式（阻抗式）露點(diǎn)計(jì)TK-100系列是Techne Measurement Co.，Ltd.的主要產(chǎn)品。
TK-100在線露點(diǎn)儀是一套TK-100變送器，監(jiān)視器和傳感器電纜，因此您可以輕松地開始測量露點(diǎn)。
達(dá)到易于引入的價(jià)格范圍
通過執(zhí)行日本制造，生產(chǎn)線和校準(zhǔn)的所有過程，我們將質(zhì)量放在*，并以易于引入所有客戶現(xiàn)場條件的價(jià)格范圍全面追求該產(chǎn)品。 ..
同時(shí)，我們建立了交貨時(shí)間短的運(yùn)輸系統(tǒng)。
引進(jìn)先進(jìn)的中心技術(shù)
TK-100在線露點(diǎn)儀的傳感器是通過反映我們在新的陶瓷傳感器技術(shù)上積累的大量數(shù)據(jù)而制成的。每個(gè)傳感器的特性都記錄在變送器中，溫度由傳感器溫度計(jì)補(bǔ)償以測量傳感器輸出，并且露點(diǎn)值線性輸出。這使得每個(gè)傳感器*兼容。
采樣
對TK-100進(jìn)行采樣非常容易。
直接安裝在管道或測量環(huán)境中，或者如果可以繞過，則安裝過濾器，傳感器塊和流量計(jì)以進(jìn)行采樣。這些也可以作為“入門工具包”的選件購買。
